Das Goethe-Institut China und die Abteilung Kultur und Bildung des Generalkonsulats der Bundesrepublik Deutschland in Shanghai führen auch im Jahr 2018 die Zusammenarbeit mit dem Designinstitut der Chinese Academy of Art fort und bieten ein Residenzprogramm für Künstlerinnen und Künstler aus dem Bereich Design an. Der dreimonatige Aufenthalt von Mitte September bis Mitte Dezember 2018 dient der Arbeit an eigenen, chinabezogenen Projekten. Darüber hinaus bietet der Aufenthalt in Shanghai die Möglichkeit, Kontakte mit chinesischen Kunst- und Kulturschaffenden zu knüpfen. Die Bewerbungsfrist endet am 05. August 2018. Erfolgreiche Bewerbungen erhalten bis zum 15. August 2018 positive Rückmeldung.
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